EDI制备高纯水:EDI深度除盐

发布日期:

2024-04-10

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高纯水纯度的最主要衡量指标是水的电导率和电阻率,这反应了水中导电的杂质离子含量。在实验室水质分析领域,通常将高纯水分为纯水和超纯水,纯水的标准电阻率要求高于15.2MΩ*CM,超纯水要求电阻率高于18.2MΩ*CM。根据中国实验室用水国家标准(GB6682-2008),实验室用水主要分为三个等级,其中三级水要求水的电阻率达到0.2MΩ*CM,二级水要求电阻率高于1MΩ*CM,一级水要求达到10MΩ*CM。三级水多用于一般的化学分析试验,通常采用蒸馏的方法得到并且可以进行长期的存储。二级水用于无机衡量分析试验,原子吸收光谱分析等,其存储方式需要置于至少同级水预先处理过的清洁容器中。而一级水则通常用于高效液相色谱分析试验,核酸电泳、测序等对水质有严格要求的分析实验,一级水不允许存储,须现场制备使用。中国实验室用水国家标准给出的一级水制备工艺为将二级水经过交换混床去除离子并通过微孔滤膜过滤进行制备。但是交换混床技术存在耗费大量酸碱对混床树脂进行再生并产生较多污染性酸碱废液的缺点,同时运行成本高、不易实现自动化、不能实现连续制水也局限了该技术的普及。而随着反渗透与电解除盐技术联合制备高纯水工艺的兴起,这些缺点逐渐得到克服。

EDI制备高纯水:EDI深度除盐
随着科学技术发展,高纯水的应用领域日渐广泛,各行业对水的纯度提出了不同的需求。高纯水在生物医学领域用水对水质的要求目前没有统一的标准。在分子生物学实验中,若水中离子去除不彻底,这些杂质离子会导致DNA片段酶切不完全或DNA降解,从而影响后续反应的进行。同时实验验证,使用EDI深度除盐的超纯水培养干细胞,干细胞生长速度远远高于普通三蒸水培养的干细胞。并且在微量元素检测领域,使用EDI深度除盐的高纯水在检测成功率上远远高于离子交换技术所制备的高纯水。


在电子工业领域对高纯水电阻率的要求是最高的,通常要求大于18.2MΩ*CM。半导体、集成电路芯片、液晶显示、微电子工业等生产过程都需要大量的超纯水用于晶片制造、电子设备清洗等,因为水中的重金属离子会影响氧化膜的绝缘效果,而水中的无机物导致膜后不均从而加速腐蚀,同时水中的有机物会导致晶片表面氧化和结晶出现缺陷从而发生在蚀刻不均匀的状况。尤其是在我国如今大力发展的芯片制造领域,各种金属离子会使晶体管的各项电参数发生偏移,这会直接影响芯片制造的性能和寿命。设备常用于水的深度除盐,因此,EDI设备的运行稳定直接关系到电子工业领域的产品质量,这要求对EDI制备高纯水的各个环节指标进行测量和控制,并实时监控EDI运行状态。

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